中國媒體《珠海特區報》10月12日消息稱，中國知名晶片代工廠中芯國際官宣了FinFET N+1先進工藝的晶片流片和測試，該代工藝技術非常接近7mm。如果此次試驗成功，華為晶片有望提前迎來轉機，就算失敗，也能從中吸取經驗。

據報導了解，此次中芯國際此次官宣的N+1進程與台積電的7mm節點「幾乎相同」。而台積電的N7節點是世界上最先進的節點。現在中芯國際N+1工藝的主要問題在於，沒有台積電的7mm（ASML）掃描儀，需要更多的生產程序與材料成本，而且在性能與密度上，N+1可能會有所不足。

不過據國外媒體報導的消息，光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML公司近日談到中芯國際等中國客戶的需求，通過對美國法案進行了解，財務長表示向中國客戶出口DUV光刻機無需申請出口許可證，最先進的EUV光刻機將在2021年出貨。到時候，EUV光刻機無疑將給中芯N+1工藝再次帶來突破。

對於中芯科技，或許有人疑問，前段時間，中芯公司不是發布聲明遵守美國貿易規則嗎？

要知道中芯國際只是純商業性集成電路代工廠，之所以明面要服從美國的規矩，是因為本身並沒有核心技術，也沒有進入制裁名單，且有大量國際合作客戶，與其直接翻臉，導致生產設備被限制，零部件將被斷供，國際客戶流失，同時面臨美國罰款，不如先看局勢調整發展。

但是現在，美國已把中芯國際列入制裁名單，中芯遵不遵守美國的規定，已經沒有太大意義。面臨美國的出口限制，中芯只能背水一戰，儘快擺脫對美國設備的依賴。若新工藝不需要美國設備，一旦正式投產，只要技術問題解決了。產品一開始成本偏高問題後續是可以慢慢優化解決的。

還記得，去年5月15日，川普正式將華為列入「實體制裁」黑名單，企圖讓華為屈服，但是沒想到隨後的5月17日，華為海思內部致信全體員工，啟動備用晶片，宣布每一產品都向「科技自立」啟程。5月20日，美國晶片巨頭迫於川普政府壓力，向華為斷供晶片。

美國半導體晶片斷供的背後是中國半導體核心領域被美國「卡脖子」，面對美國針對中國的封鎖，我國必須突破美國對半導體等核心技術領域的壟斷。

轉眼間制裁已經實行一年，9月份，我國中科院正式宣布針對美國「卡脖子」清單進行反圍剿後，近日，中芯科技提前迎來技術突破，無疑是突如其來的喜訊。不管怎樣的困境，中國不服輸，敢於應對困境迎難而上，並一步步用實際行動去突破阻礙！真實地感受到了那句話，什麼樣的阻礙都難不倒中國人，突破只是時間的問題。